| 序號(hào) | 產(chǎn)品類(lèi)別 | 產(chǎn)品名稱 | 英文名稱 | 化學(xué)式 | 級(jí)別 | 純度 | 用途 | ||||
| 1 | 含氟特氣 | 六氟化硫 | Sulfur Hexafluoride | SF6 | 高純級(jí) HP | 99.997%(4N7) | 滅弧絕緣氣體，特高壓輸變電電力裝備用 | ||||
| 2 | 含氟特氣 | 六氟化硫 | Sulfur Hexafluoride | SF6 | 電子級(jí) EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 3 | 含氟特氣 | 四氟化碳 | Carbon Tetrafluoride | CF4 | 電子級(jí) EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程；也大量應(yīng)用于光纖棒制作工藝過(guò)程 | ||||
| 4 | 含氟特氣 | 六氟乙烷 | Hexafluoroethane | C2F6 | 電子級(jí) EL | 99.999%(5N) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 5 | 含氟特氣 | 三氟甲烷 | Trifluoromethane | CHF3 | 電子級(jí) EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 6 | 含氟特氣 | 八氟環(huán)丁烷 | Octafluorocyclobutane | C4F8 | 電子級(jí) EL | 99.999%(5N) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 7 | 含氟特氣 | 氟氮混合氣 | Fluorine Nitrogen mixture | F2/N2 | 電子級(jí) EL | F2: 99.95%(3N5) N2:99.999%(5N) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 8 | 含氟特氣 | 八氟丙烷 | Perfluoropropane | C3F8 | 電子級(jí) EL | 99.999%(5N) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 9 | 含氟特氣 | 二氟甲烷 | Difluoromethane | CH2F2 | 電子級(jí) EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 10 | 含氟特氣 | 一氟甲烷 | Fluoromethane | CH3F | 電子級(jí) EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 11 | 含氟特氣 | 三氟化氯 | Chlorine Trifluoride | ClF3 | 電子級(jí) EL | 99.995%(4N5) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 12 | 含氟特氣 | 三氟化磷 | Phosphorus trifluoride | PF3 | 電子級(jí) EL | 99.99%(4N) | 電子氣體，蝕刻工藝使用，將用于高深寬比的高層新一代產(chǎn)品刻蝕 | ||||
| 13 | 電子特氣 | 硅烷 | Silane | SiH4 | 電子級(jí) EL | 99.9999%(6N) | 廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、太能能電池制造、平板顯示器、集成電路、鋰電池制造、碳硅負(fù)極等領(lǐng)域 | ||||
| 14 | 電子特氣 | 氧化亞氮 | Nitrous Oxygen | N2O | 電子級(jí) EL | 99.9995%(5N5) | 用于半導(dǎo)體工業(yè)SIO2薄膜沉積等工藝，光伏工業(yè)金屬背光氣氧化、氮摻雜氧化、調(diào)控材料表面和界面結(jié)構(gòu)等，也可用于真空撿漏、溶劑及煙霧殺蟲(chóng)劑等領(lǐng)域 | ||||
| 15 | 電子特氣 | 液氧 | Ultra-pure Oxygen | O2 | 電子級(jí) EL | 99.9999%(6N) | 用于半導(dǎo)體工業(yè)等離子蝕刻等工藝，光伏工業(yè)化學(xué)氣相沉積、硅片的清洗時(shí)刻和電池片鈍化等，特種冶煉除雜，醫(yī)學(xué)治療、電子工業(yè)等離子刻蝕，航空航天等領(lǐng)域 | ||||
| 16 | 稀有氣體 | 高純氙 | High Purity Xenon | Xe | 電子級(jí) EL | 99.9995%(5N5) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 17 | 稀有氣體 | 高純氪 | High Purity Krypton | Kr | 電子級(jí) EL | 99.999%(5N) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 18 | 稀有氣體 | 高純氖 | High Purity Neon | Ne | 電子級(jí) EL | 99.999%(5N) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 19 | 稀有氣體 | 高純氦 | High Purity Helium | He | 電子級(jí) EL | 99.999%(5N) | 電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 20 | 基礎(chǔ)化學(xué)品 | 無(wú)水氟化氫 | Hydrogen Fluoride | AHF | 工業(yè)級(jí) IN | 99.98%(3N) | 用于制取氟元素、氟鹽、氟鹵烷也可用作氟化劑。制備電子級(jí)氫氟酸。廣泛用于半導(dǎo)體制程、光伏行業(yè)、制冷劑、新能源、橡膠涂料、金屬表面處理等領(lǐng)域 | ||||
| 21 | 基礎(chǔ)化學(xué)品 | 氫氟酸 | Hydrofluoric Acid | HF | 工業(yè)級(jí) IN | - | 廣泛用于玻璃工業(yè)、半導(dǎo)體制程、光伏行業(yè)、制冷劑、新能源、橡膠涂料、金屬表面處理等領(lǐng)域 | ||||
| 22 | 新能源材料 | 六氟磷酸鋰 | Lithium hexafluorophosphate | LiPF6 | 電池級(jí)(晶體) | 99.95%(3N5) | 鋰電池電解液主要鋰鹽 | ||||
| 23 | 新能源材料 | 四氟硼酸鋰 | Lithium tetrafluoroborate | LiBF4 | 電池級(jí)(晶體) | 99.50% | 鋰電池電解液功能性新型添加劑 | ||||
| 24 | 新能源材料 | 雙草酸硼酸鋰 | Lithium bisoxalate borate | LiBOB | 電池級(jí)(晶體) | 99.50% | 鋰電池電解液功能性新型添加劑 | ||||
| 25 | 新能源材料 | 二氟磷酸鋰 | Lithium difluorophosphate | LiPO2F2 | 電池級(jí)(晶體) | 99.9%(3N) | 鋰電池電解液功能性新型添加劑 | ||||
| 26 | 新能源材料 | 二氟草酸硼酸鋰 | Lithium borate difluoroxalate | LiDFOB | 電池級(jí)(晶體) | 99.9%(3N) | 鋰電池電解液功能性新型添加劑 | ||||
| 27 | 新能源材料 | 二氟雙草酸磷酸鋰 | Lithium difluorodioxalate phosphate | C4F2LiO8P | 電池級(jí)(EMC液態(tài)) | 20±2%(濃度) | 鋰電池電解液功能性新型添加劑 | ||||
| 28 | 濕電子化學(xué)品 | 氫氟酸 | Hydrofluoric Acid | HF | 電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | ＜10 ppt | 電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 29 | 超高純氣體 | 氟化氫 | Hydrogen Fluoride | AHF | 電子級(jí) UPSSS | 99.999%(5N) | 電子氣體，蝕刻工藝使用，將用于高深寬比的高層新一代產(chǎn)品刻蝕； | ||||
| 30 | 濕電子化學(xué)品 | 硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | ＜10 ppt | 電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 31 | 濕電子化學(xué)品 | 氨水 | Ammonia | NH3.H2O | 電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | ＜10 ppt | 電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 32 | 濕電子化學(xué)品 | 氟化銨 | Ammonium Fluoride | NH4F | 電子級(jí) UPSS、UPS、EL、IN | 電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | |||||
| 33 | 濕電子化學(xué)品 | 雙氧水 | Hydrogen Peroxide | H2O2 | 電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | ＜10 ppt | 電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 34 | 濕電子化學(xué)品 | 鹽酸 | Hydrochloric Acid | HCl | 電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | ＜10 ppt | 電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 35 | 濕電子化學(xué)品 | 硝酸 | Acetic Acid | HNO3 | 電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | ＜10 ppt | 電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 36 | TFT化學(xué)品 | 光阻剝離液 | Stripper | Mixture | 電子級(jí) EL | 主要應(yīng)用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | |||||
| 37 | TFT化學(xué)品 | 光阻洗凈液 | EBR | Mixture | 電子級(jí) EL | 主要應(yīng)用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | |||||
| 38 | TFT化學(xué)品 | 鋁蝕刻液 | Al Etchant | Mixture | 電子級(jí) EL | 主要應(yīng)用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | |||||
| 39 | TFT化學(xué)品 | 銅蝕刻液 | Cu Etchant | Mixture | 電子級(jí) EL | 主要應(yīng)用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | |||||
| 40 | TFT化學(xué)品 | BOE蝕刻液 | BOE Etachant | Mixture | 電子級(jí) UPSS、UPS、 EL | ＜100 ppt | 主要應(yīng)用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過(guò)程 | ||||
| 41 | 基礎(chǔ)化學(xué)品 | 98%硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 工業(yè)級(jí)IN | ||||||
| 42 | 基礎(chǔ)化學(xué)品 | 104.5%發(fā)煙硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 工業(yè)級(jí)IN | ||||||
| 43 | 基礎(chǔ)化學(xué)品 | 精制硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 工業(yè)級(jí)IN | ||||||
| 44 | 基礎(chǔ)化學(xué)品 | 三氧化硫 | Sulfur Trioxide | SO3 | 工業(yè)級(jí)IN | ||||||
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